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密閉動態控溫系統可控介質溫度，可控物料溫度，特別適合對反應工藝、過程控制更精準要求的用戶，在化學工業和制藥工業的產品開發和生產過程中，溫度控制對于安全和高質量的反應產品都是至關重要的
高低溫動態溫控系統采用全密閉設計，不設浴槽，專用于對外部負載進行恒溫控制，只有管路里面的介質參與循環控溫、降低了導熱介質的參與量，提升了系統高低溫控溫的響應速度。
PTHC系列密閉動態控溫系統采用全密閉設計，不設浴槽，專用于對外部負載進行恒溫控制，采用密閉設計，高溫時不會產生油霧和刺鼻氣味揮發到環境中、低溫不吸收環境空氣中雜質和水份，只有導熱介質參與循環，膨脹罐的溫度始終保持在較低溫度，避免了空氣進入循環系統后帶來循環介質變質及環境不友好等諸多問題。
PTHC密閉動態溫度控制系統采用全密閉設計，不設浴槽，專用于對外部負載進行恒溫控制，采用密閉設計，高溫時不會產生油霧和刺鼻氣味揮發到環境中、低溫不吸收環境空氣中雜質和水份，只有導熱介質參與循環，膨脹罐的溫度始終保持在較低溫度，避免了空氣進入循環系統后帶來循環介質變質及環境不友好等諸多問題。
PTHC密閉制冷加熱控溫系統主要應用于反應釜高精度溫度控制，以及材料測試中的溫度條件模擬，擁有寬廣的溫度范圍和強勁的升降溫速率。該系列可提供 -40-250℃的溫度控制范圍，配套反應釜，特別適用于快速放熱和吸熱的化學反應試驗。
PTHC密閉制冷加熱循環裝置使用動態制冷控制技術，高溫下同樣擁有很低的功率制冷，保障溫度穩定性，同時可以確保系統在高溫下的快速制冷降溫；
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